In English

Effect of porosity on mechanical and fracture properties of Advanced PECVD Ultralow-k SiCOH films

Chen Wu
Göteborg : Chalmers tekniska högskola, 2012.
[Examensarbete på avancerad nivå]


Publikationen registrerades 2012-11-14. Den ändrades senast 2013-04-04

CPL ID: 166082

Detta är en tjänst från Chalmers bibliotek